반도체 시장 공략 나선 캐논, 7년만에 신형 반도체 노광기 출시

 

캐논은 신형 노광기 FPA-3030i5a를 3월부터 판매할 예정이다.  / 사진=캐논

 

글로벌 카메라 기업인 캐논(Canon)이 7년만에 신형 반도체 노광기를 출시한다.

 

닛케이 신문에 따르면, 캐논이 7년 만에 소형 기판용 반도체 노광기 ‘FPA-3030i5a'를 3월에 출시해 일본 니콘, 네덜란드 ASML 등이 장악한 반도체 노광기 시장에 진출할 계획이다.

 

FPA-3030i5a는 파장이 365nm인 ‘i-Line' 광원을 사용해 2인치~8인치 크기의 소평 기판을 처리할 수 있다.

 

해상도눈 0.35 마이크로미터(μm)로, 웨이퍼 위치를 측정하는 부품과 소프트웨어를 업그레이드 해 기존 모델보다 효율도 17% 향상시켰다.

 

FPA-3030i5a는 웨이퍼 위치를 측정하는 ‘교정 오실로스코프’의 구성을 조정하고 노광 공정과는 별도로 측정 유닛을 설치했고 가로와 세로 두 방향의 측정을 동시에 진행해 측정 시간을 단축해 측정 광원의 파장 범위를 확대해 마크 식별이 어려운 다중 기판과 투명 기판을 지원하고 웨이퍼 뒷면의 마크를 식별 가능하다.

 

FPA-3030i5a는 또 실리콘 웨이퍼뿐만 아니라 차세대 반도체 소재로 꼽히는 실리콘 카바이드(SiC), 5G 관련 반도체 소재로 주목받는 갈륨 나이트 라이드(GaN) 등 소형 웨이퍼가 많은 화합물 반도체의 생산 효율을 높일 수 있다.

 

현재, 글로벌 반도체 노광기 분야는 네덜란드 ASML, 일본 캐논, 니콘 등 3개 기업이 90% 이상을 장악하고 있으며, 반도체 성능을 향상하는 미세 공정에서는 단파장인 ‘EUV(극자외선)’ 광원을 사용하는 ASML이 시장을 선도하고 있다.

 

캐논은 2020년 7월에 515㎜ x 510㎜ 대형 기판에 쓰이는 노광기를 출시하는 등 반도체 후공정 과정에서 사용하는 노광기와 나노 임프린트(nano-imprint, 기판 위에 수지를 도포한 이후 e빔을 이용해 나노 크기로 제작한 몰드로 가압 경화해 패턴을 전사하는 기술) 노광 장비 개발에 매진하고 있다.

 

캐논 광학기기 사업본부 관계자는 “앞으로 반도체 소재와 기판 크기 등 고객사가 제조한 반도체 종류에 따라 제품 라인을 확장할 것”이라며 “고객사 수요에 맞춰 웨이퍼 테이블 등 플랫폼, 투영 렌즈, 교정 오실로스코프 등 3개 주요 유닛을 개발하고 조합해 완벽한 제품군을 구축하겠다”라고 밝혔다.